オリジオKISSの特徴

• RF（高周波）は、真皮層から脂肪層にかけて熱エネルギーを伝達する技術です。組織を瞬間的に40〜60℃に加熱することで、コラーゲン生成の促進や脂肪細胞の収縮、即効性のある引き締め効果が期待できます。

  ①3種類の照射モードでたるみに最適化

  一般的なモノポーラRF機器は、施術対象が限定的で、表層または深層のいずれかにしかアプローチできない場合がほとんどです。オリジオKISSには、異なる深さにアプローチするT・G・Xの3種類の照射モードが搭載されており、組み合わせることで、表層から真皮の上層と下層を同時に引き締めることが可能。出力やパルスを細かく調整し、フェイスラインの引き締め／頬・口元のたるみケア／毛穴・ハリ感アップなどを、肌状態に合わせて最適な照射を可能にします。

  ②リアルタイムチェックシステム

  照射のたびに圧力・温度・インピーダンスチェックが行いながら出力を調整するため、安全で均一な照射が可能になります。
  圧力チェック：ハンドピースの押し当て具合を監視
  温度チェック：過度な加熱を防止
  インピーダンスチェック：肌の電気の通りやすさ（＝水分量や密着度の目安）を測定し、ムラや過剰照射を防ぐ

  ③冷却機能で痛みを軽減

  高度な接触冷却システムがRFの照射と同時に連続で冷却を行うことで、施術中の肌温度を適切にコントロールすることができ痛みを最小限に抑えます。また、表皮は保護され皮膚の奥深くまでRFエネルギーが供給可能となります。

  ④HIFUと同時施術も可能

  深部のSMAS層へのアプローチであるHIFUを追加でき、RFと組み合わせて全層へのアプローチが可能です。